TEKNOLOGI – Intel mengambil langkah besar dalam industri semikonduktor dengan mulai memanfaatkan teknologi High Numerical Aperture Extreme Ultraviolet (High-NA EUV) untuk produksi massal sebagian chip prosesor Panther Lake. Menurut laporan utama Interesting Engineering yang mengutip pengumuman ASML, langkah ini menjadikan Intel sebagai perusahaan pertama yang menerapkan teknologi litografi High-NA EUV pada tahap produksi volume tinggi. Inovasi tersebut diharapkan mampu meningkatkan presisi proses fabrikasi sekaligus membuka jalan bagi pengembangan chip generasi berikutnya yang lebih kecil, lebih cepat, dan lebih hemat energi.
High-NA EUV merupakan pengembangan dari teknologi litografi EUV yang selama ini digunakan untuk mencetak pola transistor pada wafer silikon. Dibandingkan generasi sebelumnya, sistem baru ini memiliki tingkat numerical aperture yang lebih tinggi sehingga mampu menghasilkan pola sirkuit dengan detail yang jauh lebih halus. Menurut Interesting Engineering, peningkatan tersebut memungkinkan produsen semikonduktor menciptakan transistor berukuran lebih kecil tanpa harus melalui proses pencetakan berulang yang kompleks. Hasilnya, efisiensi produksi dapat meningkat sekaligus mengurangi potensi kesalahan selama proses manufaktur.
Intel memanfaatkan mesin High-NA EUV buatan ASML untuk memproduksi lapisan tertentu pada prosesor Panther Lake yang dibangun menggunakan proses manufaktur Intel 18A. Meskipun belum diterapkan pada seluruh tahapan produksi, penggunaan teknologi ini memberikan kesempatan bagi Intel untuk mengumpulkan data operasional sekaligus mengoptimalkan proses sebelum diterapkan secara lebih luas pada generasi chip mendatang. Mesin High-NA EUV sendiri diperkirakan memiliki harga sekitar 400 juta dolar AS per unit, menjadikannya salah satu peralatan manufaktur paling mahal yang pernah dikembangkan untuk industri semikonduktor.
Penggunaan teknologi tersebut juga menjadi bagian dari strategi Intel untuk kembali memperkuat daya saingnya di pasar chip global. Selama beberapa tahun terakhir, perusahaan terus berinvestasi pada teknologi fabrikasi baru, termasuk pengembangan proses Intel 18A, transistor RibbonFET, serta sistem distribusi daya PowerVia. Kombinasi inovasi tersebut diharapkan mampu menghasilkan prosesor dengan performa lebih tinggi sekaligus konsumsi daya yang lebih rendah untuk memenuhi kebutuhan komputasi modern, termasuk kecerdasan buatan (AI), komputasi awan, dan perangkat komputasi berkinerja tinggi.
Dalam pengumuman resminya, ASML menjelaskan bahwa Intel telah mulai menggunakan mesin High-NA EUV untuk memproduksi sebagian lapisan pada chip Panther Lake guna memperoleh pengalaman produksi sekaligus mengoptimalkan kemampuan sistem tersebut. Langkah ini menunjukkan bahwa teknologi litografi generasi baru mulai beralih dari tahap penelitian menuju implementasi nyata di lini produksi. Keberhasilan Intel mengadopsi High-NA EUV diperkirakan akan menjadi tonggak penting bagi industri semikonduktor sekaligus mempercepat pengembangan prosesor masa depan yang semakin kecil, efisien, dan bertenaga.
